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Enlitech 出席第15屆中日雙邊有機(jī)固體電導(dǎo)、光導(dǎo)與相關(guān)現(xiàn)象學(xué)術(shù)研討會
2025-10-23

時(shí)間:2025年10月24日-27日地點(diǎn):中國蘇州|獨(dú)墅湖世尊酒店主辦單位:中國科學(xué)院化學(xué)研究所有機(jī)固體院重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、蘇州大學(xué)Enlitech出席第15屆中日雙邊有機(jī)固體電導(dǎo)、光導(dǎo)與相關(guān)現(xiàn)象學(xué)術(shù)研討會Enlitech(光焱科技)將于2025...

  • 2025-09-22

    時(shí)間:2025/9/23-9/25地點(diǎn):意大利·羅馬Enlitech很榮幸宣布將參加「新一代太空光電」國際會議PVSPACE-25!本次盛會將于2025年9月23–25日在意大利羅馬舉行,聚焦太空能源與光電技術(shù)的前沿突破。會議重點(diǎn)議題PVSPACE-25將涵蓋多項(xiàng)太空光電前沿研究與應(yīng)用,包括:鹵化物鈣鈦礦與多結(jié)薄膜太陽能電池柔性光伏與充氣式太陽能電池太空輻射效應(yīng)與環(huán)境測試無線電力傳輸與綠色推進(jìn)技術(shù)光電探測器在IoT、生物感測與輻射監(jiān)測的應(yīng)用Enlitech的參會亮點(diǎn)作為光電檢...

  • 2025-09-10

    PVK/Si疊層研究痛點(diǎn)分析鈣鈦礦/晶硅(PVK/Si)疊層太陽能電池研究中,光譜響應(yīng)分離和長期測試穩(wěn)定性是兩大核心挑戰(zhàn)。上層鈣鈦礦對可見光敏感,下層晶硅主要吸收近紅外區(qū)段(800–1200nm)。傳統(tǒng)模擬器難以精確分離各子電池響應(yīng),鈣鈦礦層還常面臨熱降解問題。Enlitech全新推出的SS-LED220A++級任意光譜LED太陽光模擬器專門針對這些問題設(shè)計(jì),我們的這款新產(chǎn)品為PVK/Si疊層電池研究提供精準(zhǔn)測量方案。A++級光譜精確調(diào)控能力我們新推出的SS-LED220具備...

  • 2025-09-09

    外部量子效率eqe作為光電器件的核心性能指標(biāo),其工作原理基于光子到電子的轉(zhuǎn)化過程量化分析,而優(yōu)點(diǎn)則體現(xiàn)在準(zhǔn)確評估、指導(dǎo)優(yōu)化、跨領(lǐng)域適用及實(shí)驗(yàn)便捷等方面。隨著測試技術(shù)的進(jìn)步,EQE正成為推動(dòng)光電領(lǐng)域創(chuàng)新的關(guān)鍵工具。外部量子效率eqe優(yōu)點(diǎn):1.準(zhǔn)確評估性能:EQE為量化分析提供了標(biāo)準(zhǔn)化指標(biāo),能夠準(zhǔn)確反映器件在不同波長下的光電轉(zhuǎn)換能力。相較于傳統(tǒng)方法,它更細(xì)致地揭示光譜依賴性的效率差異,幫助研究人員定位性能瓶頸。2.指導(dǎo)工藝優(yōu)化:通過測試系統(tǒng)獲得的EQE曲線,可以直觀比較不同材料的...

  • 2025-09-02

    外部量子效率eqe衡量的是光電器件將入射光子轉(zhuǎn)化為可收集電子的效率,具體表現(xiàn)為收集到的電子數(shù)與入射光子數(shù)之比。例如,在太陽能電池中,當(dāng)光子撞擊材料時(shí)可能激發(fā)電子躍遷形成電流;而在LED里,則涉及電能驅(qū)動(dòng)下光子的發(fā)射過程。這一參數(shù)直接反映器件對光能的利用能力。通過強(qiáng)度可調(diào)的偏置光模擬不同工作狀態(tài),并測量器件在不同波長單色光照射下產(chǎn)生的短路電流來計(jì)算EQE值。例如,針對太陽能電池的研究顯示,其在近紅外線波長范圍內(nèi)的EQE可達(dá)110-190,且可通過調(diào)整活性層厚度優(yōu)化光學(xué)活性和量子...

  • 2025-08-27

    展會名稱:3rdPerovskiteEvaporationConference(PEC2025)時(shí)間:2025年9月19日地點(diǎn):意大利羅馬Enlitech(光焱科技)將參與第三屆國際鈣鈦礦蒸鍍會議(PEC2025)。此會議將於2025年9月19日在意大利羅馬舉行。作為本次會議的贊助合作伙伴之一,Enlitech誠摯邀請您蒞臨現(xiàn)場與我們交流。PEC2025會議焦點(diǎn):PEC2025專注于探討以蒸鍍方式制備的雜化金屬鹵化物鈣鈦礦,會議主題涵蓋:創(chuàng)新蒸鍍技術(shù):提升制程效率與品質(zhì)的先進(jìn)...

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